高温真空ろう付け炉で、自動車用三元触媒精製装置の金属ハニカム担体を真空中でろう付けしました。
ファーネスライナーのモリブデンスクリーンが変形し、短時間で割れました。 クラックの形態と化学組成
高温真空ろう付け炉内の ed モリブデン スクリーンを使用前後で比較しました。
結果は、モリブデンスクリーンの加速された変形および亀裂の理由が、モリブデンスクリーンの表面へのニッケルベースのフィラー金属の堆積であることを示している。
堆積物は、モリブデン スクリーンの微細構造と物理的特性を変化させます。 これに基づいて,高温真空ろう付炉用モリブデンスクリーンの設計点を提唱した。
自動車産業における三元触媒浄化装置のメタルハニカム担体を高温真空ろう付け炉でろう付けする過程で、大量のニッケル系ろう材が揮発し、
高温真空炉
それらのいくつかは、真空ろう付け炉の真空ユニットによって排出されます。
そしてそれらのかなりの部分が炉の断熱層に堆積し、
主に、高温に面するモリブデンスクリーンの最初の層が明らかに堆積されます。 大量のニッケルベースのはんだ堆積物により、高温真空ろう付け炉のモリブデンスクリーンが変形し、
ひび割れやその他の故障フォームと時間は短いです。 一般的にモリブデンスクリーンは約XNUMX年で交換が必要です。
三元触媒精製装置の金属ハニカム キャリアの真空ろう付けプロセスでは、ファーネス ライナーのモリブデン スクリーンが変形し、短時間で割れます。
割れた高温真空ろう付炉モリブデンスクリーンの形態比較と化学組成分析を使用前後に行った。
結果は、モリブデンスクリーンの加速された変形および亀裂の理由が、モリブデンスクリーンの表面へのニッケルベースのフィラー金属の堆積であることを示している。
堆積物は、モリブデン スクリーンの微細構造と物理的特性を変化させます。
これに基づいて、高温真空ろう付け炉用モリブデンスクリーンの設計ポイントを提示する。高温真空ろう付け炉では、
断熱に使用されるモリブデンスクリーンが変形すると、
割れやその他の故障形態、それは高温真空ろう付け炉の炉内張りが熱を漏らし、保温故障を引き起こします。
試験方法
高温真空ろう付け炉におけるモリブデンスクリーンのひび割れの外観とひび割れ形態を視覚的に観察することにより、
使用後のはんだ堆積物を含むモリブデンスクリーンの組成を試験、分析、比較し、これに基づいてモリブデンスクリーンのひび割れの原因を分析しました。
サンプルの成分は、ドイツ OBLF QSN750 のユニバーサル マルチマトリックス スパーク直読分光計を使用して分析されました。
テスト結果と分析
検査のために提出された 2 つのモリブデン スクリーン サンプルは、2 年間使用された同じモリブデン スクリーン ブロックから採取されたものです。
それらの 2 つは堆積物なし (図 XNUMX の矢印で示された黒いボックスは遮断位置)、
もう一方のピースの表面ははんだの堆積物で覆われています。 図 2 は、前面のモリブデン スクリーンの部分的な写真を示しています。
切断する前に、ひびの入ったモリブデンスクリーンを慎重に確認してください。
はんだ付着物は炉の温度ゾーンに面した側のみに覆われており、モリブデンスクリーンの重なり合う部分にははんだ付着がありません（矢印は黒枠を示します）。
バーニアキャリパーを使い、
はんだ堆積物が付着したモリブデンスクリーンの厚さは、はんだ堆積物が付着していないものより0.1mm厚くなっています。ひび割れたモリブデンスクリーンを目視で観察したところ、
はんだの堆積物が層状になっており、表面の凹凸が激しいことがわかります。
2つの部分の違いです。
高温真空ろう付け炉におけるモリブデンスクリーン割れの原因分析
サンプル組成分析
提出された XNUMX つのモリブデン スクリーン サンプル、
検査のために、XNUMX年間使用された同じモリブデンスクリーンブロックから採取されました.
サンプル1にはんだコーティングがなく、サンプルにはんだコーティングがありませんでした
サンプルの化学成分分析結果を表 1 に示します。
表1から、サンプル組成における不純物含有量の変化がわかる。サンプル1（はんだコーティングされていないモリブデンシート）では、
高温真空炉
モリブデン含有量が大幅に高く、不純物含有量が少なく、マンガンやニッケル含有量などの一部の金属不純物成分がゼロです。
サンプル2（フィラー金属コーティングを施したモリブデンシート）では、
モリブデン含有量の質量パーセントが減少し、
不純物含有量は倍増し、元のモリブデンスクリーンには含まれていないマンガンやニッケルなどの金属不純物も検出されています。増加は明らかです。
不純物源の分析によると、
液体ニッケルベースのろう付けフィラー金属は、三元触媒浄化装置の金属ハニカムキャリアの真空ろう付けプロセスで広く使用されており、rが主な供給源です。
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