マシンの概要
この真空誘導炉は誘導加熱技術を採用しており、最高温度は3000℃までです。チャンバーはステンレス鋼素材で作られており、装置の安定性と連続稼働能力を維持するために水冷システムが装備されています。
同時に、この装置には石英観察窓も装備されており、ユーザーは製錬または熱処理プロセス全体を通して製品の変化を視覚的に観察することができ、より直感的な観察と制御が可能になります。
真空誘導炉は高品質の高周波誘導電源を採用しており、加熱プロセスが効率的で、加熱速度が速いです。
正確な温度制御を確保するために、装置には赤外線温度測定機能とインテリジェント温度コントローラーも装備されており、リアルタイムで溶融温度を監視および制御できます。
また、カバー真空誘導炉には過熱保護機能もあり、温度が設定範囲を超えると自動的に加熱を停止し、装置やサンプルの安全を守ります。
真空誘導炉の概要
| いいえ。 | 項目 | DATA |
| 1 | 電圧 | 380V 50Hz 3期 |
| 2 | チャンバー材質 | 304ステンレス鋼 |
| 3 | 真空チャンバーサイズ | 1000mm×1400mm |
| 4 | るつぼの容積 | 120×150mm |
| 5 | 溶解能力 | 5-20KG |
| 6 | 一般的な温度 | 3000°C |
| 7 | 作業環境 | 真空またはAr N2ガス保護 |
| 8 | 温度管理 | PIDインテリジェントプログラム |
| 9 | 温度制御精度 | + -1％ |
| 10 | 保護方法 | PLCインテリジェント警告 アラーム保護 |
真空誘導炉応用
1、金属製錬:
真空誘導炉は金属製錬の分野で重要な役割を果たしています。誘導加熱と真空環境により、
金属を高温溶解・合金調整・精製することで、高純度・高品質な金属材料が得られます。
2、半導体精製：
炉内の温度、雰囲気、圧力などを制御することで、高純度、
電子デバイスの製造に使用できる、不純物の少ない半導体材料が得られます。
3、生物分野：
真空誘導炉は生物学の分野で特別な用途があります。滅菌、不活化、
高温熱処理技術による生体材料や医薬品原料の分解など、生物学分野の実験および応用ニーズに応えます。
4、結晶の準備:
真空誘導炉は結晶調製プロセスにおいて重要な役割を果たします。金属単結晶、半導体単結晶などの各種単結晶材料
セラミック単結晶は、高温溶解や固相反応などの技術により作製でき、光電子デバイス、レーザー、センサーなどの分野で利用されています。
5、新素材研究：
真空誘導炉は新材料研究に幅広く応用できます。材料合成、溶解、アニーリング、
新材料の構造、特性、応用可能性を探求するための処理などを行い、新材料分野の発展を促進します。
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